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半导体纳米思科格罗方德半导体为20纳米设计流程提供支持

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格罗方德半导体日前宣布了该公司推进尖端20纳米的制造工艺走向市场的一项重大的进展。罗格方德半导体利用电子设计自动化(EDA)的先进厂商如SoC系统单芯片配置与布线解决方案(Olympus-SoC Place and Route)相整合,我们能为设计者提供设计与布局(layout)选项以及执行抵销( implementation trade-offs),并对他们的20纳米设计进行优化。此外,一旦设计进入了生产阶段, 罗格方德半导体所利用的 Mentor Tessent测试功能与Mentor提供的Calibre DFM可制造性设计相结合,则使设计业者能加快系统良率损失(systematic yield loss)降低的速度。”

新思科技的产品营销副总裁Bijan Kiani表示:“格罗方德半导体 正在与新思科技合作开发一种全面性的集成电路流程提供给20纳米工艺,而这项开发的基础是新思的 Galaxy™ 执行平台(Implementation Platform)。这种流程利用新思一些最先进的工具与技术,包括最近宣布的 IC Compiler-Advanced Geometry配置与布线解决方案,以及对于双重曝影的全面支持、以IC Validator进行的设计中(In-Design)实体验证与 StarRC™ 寄生撷取(parasitic extraction)。格罗方德半导体使用了新思的 Galaxy设计流程而成功的制成该公司的20纳米测试芯片。”
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